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Title :電子デバイス応用のためのアモルファス炭素薄膜のドーピング技術の開発
Title alternative :Establishment of doping technique of amorphous carbon thin films for application to electronic devices
Authors :比嘉, 晃
Authors alternative :Higa, Akira
Issue Date :5-Jun-2009
Abstract :2007年度~2008年度科学研究費補助金(基盤研究(C))研究成果報告書
研究概要:アモルファス炭素薄膜(以下,a-C:H 薄膜と呼ぶ)の電子デバイス応用を実現するためには,a-C:H 薄膜の伝導度制御が必要不可欠である.本研究では,この伝導度制御を行うために化学ドーピング法によるヨウ素ドーピングを行った.本手法によるドーピング効果は,a-C:H 薄膜の膜構造に強く依存すること,また,ドーピングすることによって,薄膜の光学ギャップエネルギーや電気抵抗率が制御可能であることが明らかになり,電子デバイス応用のためのドーピング技術確立に対する重要な知見が得られた.
Type Local :研究報告書
Publisher :比嘉晃
URI :http://hdl.handle.net/20.500.12000/11751
Appears in Collections:Research Report (Faculty of Engineering)

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