HOME    About this site    mypage    Japanese    library    university    Feedback
Return to Browse by Author

Sorting by Title |  Sort by Date
TitleAuthors Date of Issue
a-C:H薄膜のプラズマ処理による構造変化勢理客, 勝則; 山下, 秀和; 比嘉, 晃; 渡久地, 實; Serikyaku, Katsunori; Yamashita, Hidekazu; Higa, Akira; Toguchi, MinoruSep-1999
RFマグネトロンスパッタリング法によるYBaCuO超伝導薄膜の作製渡久地, 実; 比嘉, 晃; 島袋, 敏行; Toguchi, Minoru; Higa, Akira; Shimabukuro, ToshiyukiSep-1992
VHFスパッタリング法により作製した水素化アモルファス炭素薄膜の基板バイアスの効果松井, 謙治; 喜友名, 達也; 比嘉, 晃; 渡久地, 實; Matsui, Kenji; Kiyuna, Tatsuya; Higa, Akira; Toguchi, MinoruMar-2000
Y-Ba-Cu-O系高温超伝導体の電気的特性の格子定数および成形圧依存性渡久地, 實; 比嘉, 晃; 屋良, 卓也; 新垣, 修; 山下, 崇; Toguchi, Minoru; Higa, Akira; Yara, Takuya; Arakaki, Osamu; Yamashita, TakashiSep-1989
多孔質シリコン3次元周期構造作製その構造・特性評価前濱, 剛廣; 比嘉, 晃; 曽根川, 富博; Maehama, Takehiro; Higa, Akira; Sonegawa, TomihiroMay-2004
熱フィラメントCVD法によるダイヤモンド薄膜の合成とその評価宮城, 光秀; 新垣, 学; 比嘉, 晃; 渡久地, 實; 安冨祖, 忠信; Miyagi, Mitsuhide; Arakaki, Manabu; Higa, Akira; Toguchi, Minoru; Afuso, ChushinSep-1993
電子デバイス応用のためのアモルファス炭素薄膜のドーピング技術の開発比嘉, 晃; Higa, Akira5-Jun-2009

Showing 7 items.